2016年8月の記事を読む
2016年7月の記事を読む
2016年6月の記事を読む
2016年5月の記事を読む
2016年4月の記事を読む
2016年3月の記事を読む
2016年2月の記事を読む
2016年1月の記事を読む
2015年12月の記事を読む
2015年11月の記事を読む
2015年10月の記事を読む
2015年9月の記事を読む
2015年8月の記事を読む
2015年7月の記事を読む
2015年6月の記事を読む
2015年5月の記事を読む
2015年4月の記事を読む
2015年3月の記事を読む
2015年2月の記事を読む
2015年1月の記事を読む
2014年12月の記事を読む
2014年11月の記事を読む
2014年10月の記事を読む
2014年9月の記事を読む
2014年8月の記事を読む
2014年7月の記事を読む
2014年6月の記事を読む
2014年5月の記事を読む
2014年4月の記事を読む
2014年3月の記事を読む
2014年2月の記事を読む
2014年1月の記事を読む
2013年12月の記事を読む
2013年11月の記事を読む
2013年10月の記事を読む
2013年9月の記事を読む
2013年8月の記事を読む
2013年7月の記事を読む
2013年6月の記事を読む
2013年5月の記事を読む
2013年4月の記事を読む
2013年3月の記事を読む
2013年2月の記事を読む
2013年1月の記事を読む
2012年12月の記事を読む
2012年11月の記事を読む
2012年10月の記事を読む
2012年9月の記事を読む
2012年8月の記事を読む
2012年7月の記事を読む
2012年6月の記事を読む
2012年5月の記事を読む
2012年4月の記事を読む
2012年3月の記事を読む
2012年2月の記事を読む
2012年1月の記事を読む
2011年12月の記事を読む
2011年11月の記事を読む
2011年10月の記事を読む
2011年9月の記事を読む
2011年8月の記事を読む
2011年7月の記事を読む
2011年6月の記事を読む
2011年5月の記事を読む
2011年4月の記事を読む
2011年3月の記事を読む
2011年2月の記事を読む
2011年1月の記事を読む
2010年12月の記事を読む

三菱化学 半導体向け高機能洗浄剤を韓国で量産

　三菱化学は半導体向けの高機能洗浄剤事業を強化する。銅配線用の化学機械研磨（CMP）後に使う洗浄剤の量産工場を１年後をめどに韓国に設置する。半導体が高性能化する中、不純物を取り除く洗浄剤も一段の高度化が求められる。最新技術が生み出される米国には技術要員を配置し、手薄な米国企業への販路構築をめざす。半導体積層に用いる新材料の売り込みも始めた。付加価値の高い商品群を育成し、収益を伸ばす。