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ＪＳＲ 半導体レジスト ＥＵＶ露光向け量産体制を構築

　ＪＳＲは、半導体レジスト事業の基盤を拡充する。次世代ＥＵＶ（極紫外線）リソグラフィ向けレジストは年内に量産体制を整備。ＡｒＦ（フッ化アルゴン）液浸レジストは多重露光対応を進める一方、トップコートをはじめとする多層材も伸ばす。こうしたトランジスタ回りに加えて、急成長が見込める次世代実装やパッケージ向け厚膜レジストの開発も進める。半導体はＩｏＴ（モノのインターネット）時代を迎えて多様化しており、レジストに対しても新たなニーズが高まっている。