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ＮＴＴーＡＴ ナノカーボン薄膜の断面観察に成功
ＮＴＴアドバンステクノロジ（ＮＴＴーＡＴ）は、炭化ケイ素（ＳｉＣ）基板上のグラフェン断面を、高分解能透過型電子顕微鏡（ＨＲＴＥＭ）の利用によって観察することに成功した。次世代半導体材料としての利用が見込まれるグラフェンの電子状態を検証する手法として、今後研究機関やメーカーを対象に同手法の提案を行っていく。
グラフェンは、グラファイトの１層分のシートのことで、カーボンナノチューブやグラファイトなどの材料として利用される。最近では高導電率を有することや、高機械強度および高安定特性などにより、シリコンに次ぐ半導体材料としての利用が期待されている。
