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2011年06月15日 前へ| 次へ
ウシオ電機 EUV光源事業を拡大 DPP方式で350W
ウシオ電機は、次々世代半導体リソグラフィー技術であるEUV(極紫外線)向け光源事業を拡大する。同技術実現の決め手は光源の高出力化であり、大手3社が競っている。同社はいち早く出力向上を図るため、関連会社を売却するなど経営資源の集中を進めており、2013年までに現在の数10倍に相当する350ワット出力光源を目指す。EUVリソグラフィーは15年以降、普及が本格化する見通しであり、光源市場も急速な拡大が見込まれている。