日本ゼオン、次世代プロセス向け半導体エッチングガス事業化
日本ゼオンは、次世代半導体プロセス向けエッチングガスの事業拡大を目指す。半導体は配線幅が２０ナノメートル台前半になれば既存材料では対応が困難とされ、エッチングガスにも選択比の向上などが求められる。同社は先端ガスの開発で米ＩＢＭと協業中だが、同時に用途拡大も図ることで需要増を図る。日本ゼオンは、半導体向け酸化膜エッチングガス「ＺＥＯＲＯＲＡ」を国内外の半導体大手に出荷している。これに加えてエッチング特性を大きく改善した次世代エッチングガス「ＳＳＹ?３８」を開発、サンプル出荷を始めた。
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