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2014年09月16日 前へ 前へ次へ 次へ

日本ファインセラミックス 高放熱性SiN基板 車載用途に展開

 日揮グループの日本ファインセラミックスは、高放熱窒化ケイ素(SiN)基板の用途拡大を進める。一般的なSiNの約4倍の放熱性と絶縁・機械強度、耐侯性を両立した製品で、マイナス50度C〜200度Cの熱サイクル強度を実証。100ミリメートル角程度までの量産に対応しており、採用実績もある。現在の発光ダイオード(LED)用途に加え、2020年をめどに炭化ケイ素(SiC)系車載パワー半導体の放熱用途などに展開する。窒化アルミニウム(AlN)より放熱性が高い次世代製品の開発も産官共同で進めていく。


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