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2014年07月28日 前へ 前へ次へ 次へ

産総研 極めて平坦な平面ガラス基板を開発

 産業技術総合研究所はテクニカルと共同で、平面度λ/100(約6・3ナノメートル)の超高精度平面ガラス基板を開発した。装置に組み込んだ状態で世界最高水準の平面精度を実現、平面鏡やプリズムといった光学部品の高精度化への貢献が見込まれる。産総研では、今秋を目途に今回開発した超高精度平面度測定装置を用いて、平面度の校正サービスを開始する予定。


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