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日本曹達は、液晶ディスプレイや光学部品に用いられるインジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）成膜の新技術を開発した。同社独自のパイロゾル法を発展させたもので、既存のスパッタ法などでは難しいとされる高アスペクト比の３次元構造基板にも均一に成膜することができる。新技術の開発にともない、千葉工場（千葉県市原市）でＩＴＯ成膜の受託加工サービスを開始した。今後、配線の微細化が進む半導体など電子分野を中心に用途を開拓する。