2012年3月の記事を読む
2012年2月の記事を読む
2012年1月の記事を読む
2011年12月の記事を読む
2011年11月の記事を読む
2011年10月の記事を読む
2011年9月の記事を読む
2011年8月の記事を読む
2011年7月の記事を読む
2011年6月の記事を読む
2011年5月の記事を読む
2011年4月の記事を読む
2011年3月の記事を読む
2011年2月の記事を読む
2011年1月の記事を読む
2010年12月の記事を読む

米キャボット・マイクロ　ＣＭＰスラリー、日本に研究開発拠点

　米キャボット・マイクロエレクトロニクスは、日本に化学的機械研磨（ＣＭＰ）用スラリーなどの基礎研究から製品化直前の最終評価までを手掛ける包括的な研究開発拠点を構築する。日本、台湾、韓国などの既存マーケットに加え、中国、東南アジアなど新興国市場の重要性が高まり、半導体分野で世界を先行する日本に研究開発拠点を置くことを決めた。これまで米国だけで行っていたＣＭＰ用スラリーや研磨用パットの研究開発機能を日本に置き、開発体制を抜本的に強化する。