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富士フイルム、半導体レジスト事業強化

　富士フイルムは、半導体レジスト事業を強化する。回路パターンの深堀に有利なネガ型の２回／２重露光プロセス対応製品に注力しており、半導体メーカーの微細化ニーズに対応する。同レジストは現像液を替えることで、解像度の高いポジ型としても使用できることが特徴。さらに次々世代のＥＵＶ（極紫外線）リソグラフィー向けレジストについても、高分子型の開発を進めていく。