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オルガノ、オゾン濃度向上の半導体工程前処理システム開発
オルガノは、半導体製造工程に使用するオゾン水で含有オゾン濃度を向上させる前処理システムを開発した。同システムは、独自に開発した特殊な触媒を用いて紫外線（ＵＶ）酸化処理を行った超純水中に含まれる微量の過酸化水素を除去し、オゾン濃度を従来比１０-４０％に高める。これによりオゾン製造のための電力やガス消費量を半減させ、少ない投資でのライン増設も可能とした。来年４月には販売を開始する計画で、国内外の半導体や液晶製造設備を対象に提案していく。開発した「高効率オゾン水システム」は、独自に開発した触媒を組み込んだモジュールに超純水を通過させることにより、含有する微量の過酸化水素を除去。これにより後段のオゾン濃度を従来の５０ｐｐｍから７０ｐｐｍへと向上させる。オゾン濃度の向上にともない、オゾン製造に使用する電力や消費ガスを従来の半減とし、既存のオゾン製造能力のまま後段で使用する洗浄装置を１台増設することもできる。また、洗浄時間短縮などの効果も見込んでいる。
