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ＡＳＭＬ 次世代半導体露光機関連技術開発

　半導体露光機最大手の蘭ＡＳＭＬは次世代ＥＵＶ（極紫外線）露光機の実用化に必須の関連技術を開発した。連続運転に欠かせないレンズクリーニングや防塵カバー（ペリクル）に目処をつけた。最大の課題である光源開発においては、二酸化炭素レーザーで励起するレーザー生成プラズマ法（ＬＰＰ）に絞り、２０１５年に２５０ワット出力を目指す。求められるスループット（処理性能）は、「用途によって異なる」（同社日本法人）としている。