2013年12月の記事を読む
2013年11月の記事を読む
2013年10月の記事を読む
2013年9月の記事を読む
2013年8月の記事を読む
2013年7月の記事を読む
2013年6月の記事を読む
2013年5月の記事を読む
2013年4月の記事を読む
2013年3月の記事を読む
2013年2月の記事を読む
2013年1月の記事を読む
2012年12月の記事を読む
2012年11月の記事を読む
2012年10月の記事を読む
2012年9月の記事を読む
2012年8月の記事を読む
2012年7月の記事を読む
2012年6月の記事を読む
2012年5月の記事を読む
2012年4月の記事を読む
2012年3月の記事を読む
2012年2月の記事を読む
2012年1月の記事を読む
2011年12月の記事を読む
2011年11月の記事を読む
2011年10月の記事を読む
2011年9月の記事を読む
2011年8月の記事を読む
2011年7月の記事を読む
2011年6月の記事を読む
2011年5月の記事を読む
2011年4月の記事を読む
2011年3月の記事を読む
2011年2月の記事を読む
2011年1月の記事を読む
2010年12月の記事を読む

東京応化工業 生産性高める独自レジストを展開

　東京応化工業は生産性向上やコスト低減につながる独自レジストを広く展開する。スマートフォン用などに需要が急増しているＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）イメージセンサーの受光部形成向けには、高い透明度をもつＫｒＦ（フッ化クリプトン）レジストを製品化している。また微細プロセスを形成する２回／２重露光プロセスでは、ＡｒＦ（フッ化アルゴン）レジストをコアにも用いて有機系材料だけでパターニングを可能としている。