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2013年12月11日 前へ 前へ次へ 次へ

東北大/アルバック 不揮発性スピントロニクスメモリー

 東北大学とアルバックは10日、将来の半導体微細化技術とされる磁気トンネル接合を用いて不揮発性スピントロニクスメモリーの実現が可能になったと発表した。既存の半導体メモリーは線幅20ナノメートル以下が限界とされ、次世代メモリーの必要性が高まっている。


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