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2013年10月29日 前へ 前へ次へ 次へ

NEDOなど IJ方式の超微細配線形成技術開発

 新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)とSIJテクノロジ、イオックス、日本特殊陶業、大阪市立工業研究所、産業技術総合研究所は28日、インクジェット(IJ)方式による銅配線で世界最小線幅となる3マイクロメートルの超微細配線形成技術を開発した。同技術はインキと基板の十分な密着力によりICパッケージ基板に求められる信頼性を確保しながら、低抵抗で微細な銅配線を形成できる。スマートフォンやICタグに利用される次世代IC基板や超小型プリント基板などへ展開が可能。今後同技術を発展させ、高精細な3次元実装への応用を目指す。


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