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アイバイツ 光脱離可能な保護基開発 強酸環境不要

　精密有機合成のアイバイツ（静岡県駿東郡小山町、瀬見井律男社長）は、化合物における官能基の反応性を抑えるため一時的に導入する置換基（保護基）について、光照射により除去（脱保護）できる光脱離保護基を開発した。従来、脱保護する場合は強酸存在下で行うものが一般的だったが、強酸などによる周辺物質の汚損などの課題があった。開発した光脱離保護基は光により行うため、酸、塩基のような腐食性、刺激性のある化合物を使用せずにすむ。また、加熱なども必要としないため温和な条件での脱保護が可能となる。今後、サンプル供給を通じて、医薬品や電子材料など有機合成分野の要求に応える。