ニュースヘッドライン記事詳細

2011年12月21日 前へ 前へ次へ 次へ

日立化成 CMPスラリー台湾生産 リスク分散

 日立化成工業は20日、台湾で半導体用化学的機械研磨(CMP)スラリーを生産すると発表した。約20億円を投じて台南に新会社「台湾日立化成電子材料股フェン有限公司(仮称)」を設立、2013年4月から生産を開始する。半導体メーカーが多い台湾の現地需要に対応するとともに、複数拠点化によってリスク分散を図る。


Copyright(c)2010 The Chemical Daily Co., Ltd.