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2015年06月30日 前へ 前へ次へ 次へ

アサヒ化学 高解像度の黒色レジスト開発

 プリント基板材料メーカーのアサヒ化学研究所(東京都八王子市、岩佐彰大社長)はフレキシブル基板向けに、従来製品に比べ低い露光量で高解像度のパターンが形成できる黒色のアルカリ現像型フォトソルダーレジストを開発した。ベース樹脂や添加剤などの配合設計に工夫を施すことで、基材への密着性や柔軟性などの物性を維持しながら、紫外線(UV)に対する感度を高めることに成功した。微細な基板をより低コストに作製できるといった利点を生かし、国内外の基板メーカーに採用を働きかけていく。


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